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专利成果
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用于制备表面为特定晶面的单晶空间取向调控方法和装置

发布时间：2025-06-20 点击次数：
  • 备注： 发明人：陈艳霞：郑勇力；魏杰；廖铃文；
  • 专利类型： 发明
  • 专利状态： 授权专利
  • 授权号： CN201510364164.7
  • 发明人数： 4
  • 是否职务专利： 否
  • 授权日期： 2017-10-03

下一条：一种适用于电化学原位拉曼光谱检测的薄层流动电解池